PENGARUH RAPAT ARUS DAN ADITIF p-VANILIN TERHADAP KUALITAS LAPISAN ELEKTROPLATING Zn–Ni PADA SUBSTRAT BESI

Nugroho, Tri Hadhi (2011) PENGARUH RAPAT ARUS DAN ADITIF p-VANILIN TERHADAP KUALITAS LAPISAN ELEKTROPLATING Zn–Ni PADA SUBSTRAT BESI. Other thesis, Universitas Sebelas Maret.

[img] PDF - Published Version
Download (3331Kb)

    Abstract

    Telah dilakukan pelapisan alloy Zn-Ni pada logam besi secara elektrolisis dengan aditif p-vanilin. Senyawa p-vanilin dengan variasi konsentrasi 0,000; 0,010; 0,020; 0,030; 0,040 dan 0,050 g/L ditambahkan ke dalam larutan elektrolit elektroplating Zn-Ni. Elektrolisis dilakukan pada variasi rapat arus 0,2; 0,3; 0,4; 0,5 dan 0,6 A/dm2 selama 30 menit pada suhu kamar (28 oC) dan jarak antara kedua elektroda 3 cm. Penelitian ini bertujuan mengetahui pengaruh rapat arus dan aditif p-vanilin terhadap kualitas lapisan elektroplating Zn-Ni ditinjau berdasarkan karakter berat, kekerasan dan tekstur lapisan elektroplating Zn-Ni. Karakterisasi lapisan elektroplating Zn-Ni dilakukan dengan menggunakan neraca analitik Sartorius BP 310 S untuk mengetahui berat lapisan elektroplating Zn-Ni, Mickrohardness Tester HWMMT X 7 Underwood untuk uji kekerasan lapisan elektroplating Zn-Ni dan Mikroskop XSP-12 Series untuk mengetahui tekstur permukaan lapisan elektroplating Zn-Ni. Hasil penelitian menunjukkan kualitas lapisan yang paling baik pada rapat arus 0,3 A/dm2 dan dengan penambahan p-vanilin 0,050 g/L, hasil karakterisasi berat lapisan elektroplating Zn-Ni 21,5 mg, nilai kekerasan lapisan elektroplating Zn-Ni sebesar 162,59 VHN dan tekstur permukaan halus.

    Item Type: Thesis (Other)
    Subjects: Q Science > Q Science (General)
    Q Science > QD Chemistry
    Divisions: Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan
    Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan > Pendidikan Kimia
    Depositing User: Dyah Pratiwi
    Date Deposited: 18 Jul 2013 17:51
    Last Modified: 18 Jul 2013 17:51
    URI: https://eprints.uns.ac.id/id/eprint/6562

    Actions (login required)

    View Item